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コータ/デベロッパ

コータ/デベロッパは、半導体製造プロセスのうち、写真と同じ技術を利用したフォトリソグラフィープロセスにおいて、フォトレジスト(感光剤)の塗布と現像を行う装置です。コータ/デベロッパでウェーハ上にフォトレジストを塗布した後、ウェーハは露光装置に送られ、微細な回路パターンが転写されます。次に、コータ/デベロッパに戻り、薬液を用いて現像されます。これにより、光の当たった部分のフォトレジストは溶けて流れ、ウェーハ上に転写した回路パターンが凹凸に描かれます。このフォトリソグラフィープロセスは様々な工程ごとに繰り返し行われ、複雑な集積回路が作られます。

コータ/デベロッパ
CLEAN TRACK
LITHIUS Pro Z(別ウィンドウで開きます)

コータ/デベロッパ
CLEAN TRACK
LITHIUS Pro V /
LITHIUS Pro V-i(別ウィンドウで開きます)

コータ/デベロッパ
CLEAN TRACK
LITHIUS Pro /
LITHIUS Pro-i(別ウィンドウで開きます)

コータ/デベロッパ
CLEAN TRACK
LITHIUS / LITHIUS i+(別ウィンドウで開きます)

コータ/デベロッパ
CLEAN TRACK ACT 12 / CLEAN TRACK ACT 8(別ウィンドウで開きます)

フォトマスク用コータ/デベロッパ
CLEAN TRACK ACT M(別ウィンドウで開きます)

CLEAN TRACK、LITHIUS、LITHIUS ProおよびCLEAN TRACK ACTは、東京エレクトロン株式会社の日本およびその他の国における登録商標または商標です。

サーフェスプレパレーション

半導体は非常に微細な回路を集積したもので、チリやホコリのような非常に微細な汚れが、致命的なダメージを与えます。半導体デバイスを作りこんでいくウェーハは、クリーンルーム内に入ってから完成するまで、各工程の前後にアンモニア水、塩酸、硫酸、フッ酸、純水等で洗浄され、表面に付着したゴミや汚れを落とします。また、ウェーハの受ける処理によって洗浄の方法も異なり、サーフェスプレパレーション装置はさまざまな洗浄方式、薬液に対応しています。

オートウェットステーション
EXPEDIUS +(別ウィンドウで開きます)

オートウェットステーション
EXPEDIUS -i(別ウィンドウで開きます)

枚葉洗浄装置
CELLESTA +(別ウィンドウで開きます)

枚葉洗浄装置
CELLESTA -i(別ウィンドウで開きます)

スクラバー
NS300+ HT(別ウィンドウで開きます)

スクラバー
NS300+(別ウィンドウで開きます)

スクラバー
NS300Z(別ウィンドウで開きます)

EXPEDIUSおよびCELLESTAは、東京エレクトロン株式会社の日本およびその他の国における登録商標または商標です。

ウェーハボンディング/デボンディング

半導体の性能を向上する手段として微細化がありますが、TSV(Through Silicon Via)を用いた3次元実装技術による半導体の性能向上が注目されています。ウェーハボンディング装置は、2枚のウェーハをはり合せる装置であり、代表的な例としては接着剤を用いたテンポラリーウェーハボンディングと、酸化膜同士を自己接合手法ではり合せるパーマネントウェーハボンディングがあります。デボンディング装置は、一時的にはり合わせられたウェーハ同士をTSV工程終了後に剥離する装置であり、厚さ50um以下の大変薄いウェーハを搬送および加工できる新開発の特殊機能を有しています。

ウェーハボンディング/デボンディング装置
Synapse V / Synapse Z(別ウィンドウで開きます)

ウェーハボンディング装置
Synapse S(別ウィンドウで開きます)

Synapseは、東京エレクトロン株式会社の日本およびその他の国における登録商標または商標です。

FPDコータ/デベロッパ

FPDコータ/デベロッパは、FPD製造プロセスのうちアレイ工程(ディスプレイを駆動させる側の基板のプロセス)において、フォトレジスト(感光剤)の塗布と現像を行う装置です。FPDコータ/デベロッパは、アレイ基板上にフォトレジストを塗布した後、いったん基板を露光装置に送り、そこで転写された微細な回路パターンを、薬液を用いて現像します。これにより、現像で光の当たった部分のフォトレジストは溶けて流れ、基板上に転写した回路パターンが凹凸に描かれます。これがフォトリソグラフィープロセスと呼ばれ、アレイ工程の様々なプロセスごとに繰り返し行われることで、複雑な薄膜トランジスタ(TFT)回路が作られます。

FPDコータ/デベロッパ
Exceliner(別ウィンドウで開きます)

Excelinerは、東京エレクトロン株式会社の日本およびその他の国における登録商標または商標です。

有機ELパネル製造用インクジェット描画装置

インクジェット描画装置は、有機ELパネルの有機発光層成膜の生産性を大幅に改善します。従来用いられている真空蒸着方式とは異なり、インクジェット方式では、大気中で大型ガラス基板に有機材料を必要量のみ吐出することで成膜します。これにより、今後のテレビ用パネルの大型化や低コスト化への対応が可能となります。

有機ELパネル製造用
インクジェット描画装置

Elius(別ウィンドウで開きます)

Eliusは、東京エレクトロン株式会社の日本およびその他の国における登録商標または商標です。

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