SPIE. Photomask Technology + EUV Lithography Digital Forum 2020
イベント概要
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開催日
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2020.09.21〜2020.09.25
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開催場所
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WEB配信
SPIE. Photomask Technology + EUV Lithography Digital Forum 2020が9/21から9/25に開催されます。このフォーラムでは、EUVLをはじめとしたリソグラフィ、マスクに特化した研究発表および議論がおこなわれます。東京エレクトロン（TEL）からは、EUVプロセスに対する取り組みを報告する予定です。なお、期間中は無料でWEB配信されています。ぜひこの機会にご参加ください！
Invited paper
Improvement of EUV processes for high volume manufacturing
M. Muramatsu, H. Tadatomo, T. Onitsuka, K. Yoshida, A. Dauendorffer, T. Shiozawa, S. Okada, S. Kawakami, S. Shimura (Tokyo Electron Kyushu Limited）
