シリコン材料・デバイス研究会（SDM）

イベント概要

開催日: 2020.10.22〜2020.10.22

開催場所: オンライン

シリコン材料・デバイス研究会の10月研究会が10/22にオンライン開催されます。今回の研究会のテーマは「プロセス科学と新プロセス技術」です。東京エレクトロン（TEL）からは半導体の微細化に重要な原子層オーダー加工技術に関する招待講演1件と、共同研究者から1件発表いたしました。

SDM研究会若手優秀発表賞!!
プラズマを用いた原子層エッチング
Atomic layer controlled etching process using plasma

SDM研究会若手優秀発表賞!!
Memorial Lecture
Atomic layer controlled etching process using plasma

S. Kumakura, M. Honda (Tokyo Electron Miyagi Ltd.)

Modification of states of copper and copper oxide due to IPA treatment

T.Mawaki^*1,A.Teramoto^*2,K.Ishii^*3,Y.Shiba^*1,T.Suwa^*1,S.Azumo^*2,A.Shimizu^*2,K.Umezawa^*2,R.Kuroda^*1,
Y.Shirai^*1,S.Sugawa^*1
*1 Tohoku University
*2 Hiroshima University
*3 Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.