東京エレクトロンの歴史

  • 技術専門商社
  • メーカーへの移行
  • グローバリゼーション
  • イノベーションと成長
半導体の進化
Main Frame Computer
1963
  • (株)東京放送の出資により、東京都港区赤坂に資本金500万円で(株)東京エレクトロン研究所を
    設立
1964
  • 米国サームコ社から拡散炉の輸入販売代理権を獲得し、販売を開始
1965
  • 米国フェアチャイルド社とICテスタの代理店契約
1966
  • ICテスタの1号機を輸入販売開始
1967
  • パネトロン(株)を設立し、日本初の輸入電子部品ストッキングディストリビュータとなる
  • サンフランシスコ事務所を開設
1968
  • 米国サームコ社との合弁会社テル・サームコ(株)をTBS会館内に設立
  • テル・サームコ(株)で拡散炉の国内生産を開始
  • 大阪支社を開設
1969
  • 横浜事業所を開設
  • テルトロン(株)を設立し、カーステレオOEM輸出販売を開始

1960年代

1963年 創業

1968年 テル・サームコ(株)で拡散炉の国内生産を開始

半導体の進化
Single Chip Micro Processor
1970
  • (株)メック・エンジニアリングを設立
  • 横浜にテル・サームコ(株)社屋を移転し、拡散炉完全国産化へ
  • 米国コビルト社と代理店契約
1971
  • (株)テル・エンジニアリングを設立
  • (株)メック・エンジニアリングでラインプリンタの販売を開始
1972
  • 東京プロセス開発(株)を設立、分析機器(公害防止機器)の輸入販売を開始
  • パネトロン(株)がインテル社の代理店としてマイクロプロセッサの輸入販売を開始
  • TEL America, Inc.を設立
1973
  • 米国コンピュータビジョン社と代理店契約を締結し、CAD/CAMシステムの輸入開始
  • 山梨事業所を開設
  • ヨーロッパ事務所を設立
1974
  • ICテスタ拡販でフェアチャイルド社より表彰を
    受ける
1975
  • 民生機器の生産と輸出から撤退
1976
  • テル・サームコ社が世界初の高圧酸化装置を開発
1977
  • 米国KLA社と代理店契約
  • 第1回セミコンジャパン開催・出展
1978
  • 「(株)東京エレクトロン研究所」から
    「東京エレクトロン(株)」へ商号を変更
  • 日本初のICテストセンター開設
  • 米国バリアン・アソシエイツ社と代理店契約

1976年テル・サームコ(株)
世界初の高圧酸化装置を開発

1977年 第1回セミコンジャパン開催・出展

1970年代

半導体の進化
Personal Computer
1980
  • 東京証券取引所市場第二部に上場
  • 米国AMD社と代理店契約
  • 野田経済研究所「優秀経営賞」を受賞
1981
  • テル・ジェンラッド(株)を設立、インサーキットボードテスタを国産化
1982
  • 山梨事業所内に総合研究所を設立
  • テル・バリアン(株)を設立、イオン注入装置を国産化
  • テル・メック(株)でクリーントラックを開発開始
1983
  • 米国ラム・リサーチ社との合弁会社テル・ラム(株)を設立
  • テル・サームコ(株)を横浜より神奈川県津久井郡城山町に社屋を移転
  • 日経・優良企業ランキング4位
  • 九州事業所を熊本県に開設
1984
  • 東京証券取引所市場第一部に指定替え
1985
  • 半導体商社として初の横浜VLSIデザインセンターを開設
  • 東北事業所を開設
  • 日経・優良企業ランキング4位
1986
  • 山梨県韮崎市穂坂工業団地内に総合研究所が完成
  • テル・サームコ製縦型拡散炉1号機出荷
  • テル・ラム(株)を100%子会社化し、翌年、テル山梨(株)に社名変更
  • 半導体製造装置の輸出を開始
  • テル東北エレクトロニクス(株)を設立
1987
  • テル九州(株)を設立
  • 府中事業所を開設
1988
  • テル・サームコ(株)を100%子会社化し、
    テル相模(株)に社名変更
1989
  • 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位
  • バリアン・テル(株)を米国カリフォルニア州に
    設立

1980年代

1980年 東京証券取引所市場第二部に上場

1982年 テル・バリアン(株)を設立、イオン注入装置を国産化

1986年 山梨県韮崎市穂坂工業団地内に総合研究所が完成

半導体の進化
Mobile Phone
1990
  • フラットパネルディスプレイ製造装置市場へ本格
    参入
  • 東京エレクトロンFE(株)を設立
  • 東京エレクトロンデバイス(株)を設立
1991
  • 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位(3年連続)
  • 東京エレクトロン札幌(株)を設立
  • 東京エレクトロン佐賀(株)を設立
1992
  • テル・エンジニアリング(株)を設立
1993
  • Tokyo Electron FE Korea Ltd.を設立
  • フラットパネルディスプレイ製造装置コータ/デベロッパの販売を開始
1994
  • Tokyo Electron Europe Ltd.を設立
  • TEL America, Inc.からTokyo Electron America, Inc.へ社名変更
  • 枚葉CVD装置初号機を出荷
1995
  • 企業スローガン「Customer Satisfaction」を制定(当時)
  • 初の海外開発・製造拠点である
    Tokyo Electron Oregon, Inc.を設立
  • 東京エレクトロン九州(株)大津事業所を開設
  • Tokyo Electron FE Korea Ltd.の全株式を取得し、Tokyo Electron Korea Ltd.を設立
1996
  • Tokyo Electron Taiwan Ltd. を設立
  • Tokyo Electron Massachusetts, Inc.を設立
  • Tokyo Electron Phoenix Laboratories, Inc.を設立
  • Tokyo Electron Texas, Inc.を設立
1997
  • 東京エレクトロン宮城(株)を
    設立(松島事業所)
1998
  • 山梨・穂坂地区に300mmウェーハ対応の
    プロセステクノロジーセンター完成
  • 取締役会と執行体との機能分離
  • 報酬委員会、倫理委員会・倫理担当取締役を設置
  • ストックオプション制度を導入
  • Tokyo Electron Arizona, Inc.を設立
  • 東京エレクトロンEE(株)を設立
  • Tokyo Electron Israel Ltd.を設立
1999
  • 東京証券取引所「第4回ディスクロージャー優良企業」に選定
  • 東京証券取引所第一部における業種変更「商業」から「電気機器」へ
  • 代表取締役の個別報酬開示

1998年 山梨・穂坂地区に300mmウェーハ対応のプロセステクノロジーセンター完成

1999年 東京証券取引所「第4回ディスクロージャー優良企業」に選定

1990年代

半導体の進化
Digital Consumer Electronics
2000
  • 半導体業界における環境対策活動への功績を称え「SEMI井上皓賞」がSEMIにより新設
  • コータ/デベロッパ「CLEAN TRACK ACT™ 8」1,000台出荷達成
  • 東京エレクトロン株、日経225銘柄に採用される
  • Supercritical Systems社を買収
  • 指名委員会を設置
2001
  • コーポレートメッセージ「People. Technology. Commitment.」を制定
  • Timbre Technologies社を買収
  • ISSよりExcellence in Corporate Governance(ECG)を受賞
2002
  • 産学共同の研究開発推進支援プログラム(Albany NanoTechプログラム)に参加
  • Tokyo Electron (Shanghai) Ltd.を設立
  • 東京エレクトロン ソフトウェア・テクノロジーズ(株)
    を設立
2003
  • 産学官連携の功績が認められ内閣総理大臣賞を受賞
  • Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Ltd.を
    設立
  • TEL Technology Center, America, LLCを設立
  • 執行役員制を導入
2004
  • 米国持株会社Tokyo Electron U.S.Holdings, Inc.を設立
2005
  • 第10回ディスクロージャー表彰を受賞(1999年に続き2度目)
  • スマトラ沖地震・津波災害への支援が評価され、紺綬褒状を授与される
2006
  • 行動規範として「TELバリュー」を制定する
  • Tokyo Electron Korea Solution Ltd.を設立
  • 米国にTEL Venture Capital Inc.を設立
  • TEL Epion Inc.を設立(米国Epion社を買収)
  • 縦型熱処理成膜装置10,000台を出荷
2007
  • 人材育成の社内機関「TELユニバーシティ」を設立
  • ウェーハプローバ累計20,000台を出荷
2008
  • 「知財功労賞」を受賞
  • Tokyo Electron India Private Ltd.を設立
  • 2007年度プリズムランキング(優れた会社ランキング)で総合2位
2009
  • 太陽光パネル製造装置事業への参入(スイスOerlikon Solar社を買収)

2000年代

2000年 半導体業界における環境対策活動への功績を称え「SEMI井上皓賞」がSEMIにより新設

2002年 産学共同の研究開発推進支援プログラム(Albany NanoTechプログラム)に参加

2003年 産学官連携の功績が認められ内閣総理大臣賞を受賞

半導体の進化
Big Data
2010
  • 東京エレクトロン宮城(株)を設立(大和事業所)
2011
  • 北京大学に「Tokyo Electron Scholarship」を創設
  • SiCエピタキシャル膜成膜装置Probus-SiC™が「半導体・オブ・ザ・イヤー2011」でグランプリを
    受賞
  • 世界で最も持続可能な企業100社(Global 100)に選出
  • Tokyo Electron (Kunshan) Ltd. を設立
2012
  • Tokyo Electron Singapore PTE Ltd.を設立
  • TEL NEXX, Inc.を設立 (米国NEXX Systems社を
    買収)
  • TEL FSI, Inc.を設立 (米国FSI International社を
    買収)
  • TEL Magnetic Solutions Ltd.を設立 (アイルランドMagnetic Solutions社を買収)
  • ウェーハボンディング/デボンディング装置「Synapse™シリーズ」が「半導体・オブ・ザ・イヤー2012」で優秀賞を受賞
  • 東北大学新産学連携センターにてSTT-MRAM製造装置の技術開発を開始
2013
  • 創立50周年を迎える
  • 国連グローバル・コンパクトに参加
  • 米国Applied Materials, Inc.との経営統合契約を締結
2014
  • 東京エレクトロンデバイス(株)株式の一部を売却し、連結子会社から持分法適用関連会社へ異動
  • 太陽光パネル製造装置事業から撤退
  • 枚葉洗浄装置「CELLESTA™ -i MD」が「半導体・オブ・ザ・イヤー2014」でグランプリを受賞
  • 枚葉成膜装置「Triase+™ EX-II™ TiN」において累計250チャンバー出荷を達成
2015
  • トムソン・ロイター社より「Top 100 グローバル・イノベーター2014」を受賞
  • 米国Applied Materials, Inc.との経営統合契約を解消
  • 東京エレクトロン コーポレートガバナンス・ガイドラインを制定
  • TOKYO ELECTRON House of Creativity(東北大学知の館)が竣工
  • 新生TELとして再出発(Vision、中期経営計画の策定、コーポレートロゴ刷新)
  • 電子業界のCSRアライアンス「EICC」に加盟
  • 次世代半導体向けスパッタリング装置「EXIM™」が「半導体・オブ・ザ・イヤー2015」で優秀賞を受賞
2016
  • 東京エレクトロン宮城㈱、エッチング装置 プロセスチャンバー5,000台出荷を達成
  • 産学官連携功労者表彰で内閣総理大臣賞受賞
  • 社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に選定
2017
  • ベストIR企業ランキングにて「Most Honored Company」に2年連続選定
  • 社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に2年連続選定
  • 「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に選定
  • 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株)を設立
  • Forbes Japan 「日本を動かす経営者ベスト100」
    に選定

2010年 東京エレクトロン宮城(株)を設立 
(大和事業所)

2015年 新生TELとして再出発
(Vision、中期経営計画の策定、コーポレートロゴ
刷新)

2015年 トムソン・ロイター社より
「Top 100 グローバル・イノベーター2014」を受賞

2010年代〜