ガスクラスターイオンビーム装置(ドーピング技術/トリミング技術)

東京エレクトロングループは、ガスクラスターイオンビーム(GCIB)技術で次世代デバイスに必要とされる表面加工・改質プロセス技術の新たなブレークスルーを提供します。TEL Epion Inc.がご提供する本装置は、ガスクラスターイオンビームの直進性の高いケミカルビームと、室温下での処理というユニークな特性を最大限に活用しています。その表面改質技術や高精度の修正エッチング技術により、FEOLプロセスに新たなインテグレーションスキームを提供します。

対象製品

ガスクラスターイオンビーム装置(修正エッチング)
nFusion 700 UT

ガスクラスターイオンビーム装置(表面改質)
nFusion 700 MP

製品情報

  • 半導体製造装置
    • サーマルプロセス
    • コータ/デベロッパ
    • エッチング
    • サーフェスプレパレーション
    • 枚葉成膜
    • テストシステム
    • ウェーハボンディング/デボンディング
    • SiCエピタキシャル膜成膜装置
    • ガスクラスターイオンビーム装置
  • フラットパネルディスプレイ製造装置
    • FPDコータ/デベロッパ
    • FPDプラズマエッチング/アッシング
  • 太陽光パネル製造装置
  • フィールドソリューション
  • 電子部品・情報通信機器
  • 半導体の製造プロセス