
東京エレクトロングループは、ガスクラスターイオンビーム(GCIB)技術で次世代デバイスに必要とされる表面加工・改質プロセス技術の新たなブレークスルーを提供します。TEL Epion Inc.がご提供する本装置は、ガスクラスターイオンビームの直進性の高いケミカルビームと、室温下での処理というユニークな特性を最大限に活用しています。その表面改質技術や高精度の修正エッチング技術により、FEOLプロセスに新たなインテグレーションスキームを提供します。
ガスクラスターイオンビーム装置(修正エッチング)
nFusion 700 UT
ガスクラスターイオンビーム装置(表面改質)
nFusion 700 MP
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