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半導体の進化で切り拓く未来社会の可能性

Design: bowlgraphics
2021.06.02
半導体の進化で切り拓く未来社会の可能性 nanotech museum 半導体の歴史 日本半導体歴史館「1947年 点接触トランジスタ発明(BTL)」 日本半導体歴史館「1959 年 プレーナ型IC の発明(Robert Noyce、米国Fairchild)」 株式会社アドテックHP「フラッシュメモリはなぜ躍進したか?」 舛岡富士雄教授「日本発の三次元半導体で歴史を創る」 TELESCOPE Magazine 「ムーアの法則50周年 〜平面での微細化が行き詰まったら縦方向に積層へ〜」 次世代モバイルを実現する7nmのSRAM技術をTSMCとSamsungが公表 東芝メモリ、96層3次元フラッシュメモリを採用した1TB NVMe SSDを発表 大規模集積回路の時代に突入したカーボンナノチューブ【後編】 世界初!次世代の省電力・超高速電子デバイス材料の精密な合成に成功 シリコン半導体の微細化の限界を突破するグラフェンナノリボン ~炭素原子17個分の幅に仕立て、電気的特性を最高レベルに~ Mac用新CPU「M1」は、5nmプロセスで”世界最速CPUコア”搭載 TELESCOPE Magazine 「半導体産業発展を支える『ムーアの法則』の過去・現在・未来」

半導体の進化で切り拓く未来社会の可能性

半導体の微細化技術による高速・高性能・大容量化は、新たな価値をもつ多彩な製品を提供してきました。

50年以上も前に提唱された「ムーアの法則」が示した通り、めざましい発展を遂げた半導体の進化を時系列でご紹介。

現代のインフラとして欠かせない存在となった半導体は、私たちにどんな未来を見せてくれるのでしょうか。

微細化の限界から終焉を迎えるのではないかと言われていたムーアの法則は EUV露光の実用化と2D新材料の登場でさらに1nmを越えて延命のめどが立ち、 半導体構造の立体化によってその限界を突破しました。 半導体は、AI 技術の進化と共に経済発展と社会的な問題解決を 両立する未来社会のキープレイヤーとなります。 半導体が描く未来の可能性は、無限に広がっているといえるでしょう。

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