International Symposium on Dry Process (DPS2019)
イベント概要
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開催日
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2019.11.21〜2019.11.22
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開催場所
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広島
第41回のInternational Symposium on Dry Process (DPS2019)が、11/21から11/22に広島で開催されます。
プラズマ・エッチング、プラズマ成膜、プラズマ診断/モデリング、そしてプラズマ表面改質といった乾式プロセスが議論されます。
東京エレクトロン(TEL)は、口頭発表1件とポスター発表2件を予定しています。
Novel high-aspect-ratio etch of amorphous carbon mask utilizing SiO2 atomic layer passivation
Tomohiko Niizeki, M.J. Tomura, Y. Kihara and M. Honda (Tokyo Electron Miyagi Ltd.)
Generic Feature Scale Simulator
Paul Moroz (TEL Technology Center‚ America‚ LLC)
