TOKYO ELECTRON LIMITED

投資家向け情報

2016年3月期 本決算説明会 質疑応答集

2016年1-3月期の受注が前倒しで上振れたこともあり、4-6月期のSPE受注が下がる見込みとのことだが、今後の受注見通しは昨年のように1-3月期がピークで、7-9月期がボトムになるのか?貴社が言われる前期比増収を達成するには、今後さらに受注が上がっていく必要があると思うが、どのように見ているのか?

おおよそ昨年と同様の傾向ではないかと思うが、どの四半期でどのアプリケーション向けの受注が増えるかを予測するのは難しい。

エッチング装置のシェア向上は期待できるのか?

一番重視しているのは3D-NAND。韓国において当社の認知度は高まっており、将来のシェア向上につながるPOR*1獲得の成果が出てきた。引き続き6X-9X層に取り組んでいく。

エッチングにおいてPOR獲得が進展しているというが、全体の工程数が増えている中、3年後のシェア向上に結びつくのか?

エッチング装置においてはHARC*2工程向けに生産性向上のブラッシュアップを進めている。一部でPORを取れ始めており、3年後にはシェア向上につながると考えている。他の戦略装置では今年のシェア向上が見え始めているので、WFE市場はフラットの見通しである一方、2017年3月期は増収と見ている。

FPDのG10.5投資の採算性は?過去にあったG10製造ラインの採算性が厳しく、装置価格が低く設定されていたと聞くが、それに見合うコストダウンで対応するのか?装置価格を上げるのか?

採算性を確保して商談を進めている。当社には、G10の技術を蓄積してきた強みがあり、コータ/デベロッパおよびエッチング装置において強いポジションで交渉できると期待している。基板サイズの大型化や高精細化は事業機会と捉えている。

モバイル向けのOLED製造において、インクジェット方式では200ppi程度と高精細化に優位性が欠けると思うが、インクジェット描画装置に注力する理由は?

インクジェット方式の特色を活かせる分野として、テレビ用大型基板OLED向けに事業機会があると考えており、顧客に評価をいただいている。

POR(Process of Record):顧客の半導体製造プロセスにおける装置採用の認定

HARC(High Aspect Ratio Contact)工程:高度な加工技術を要する深穴形成工程

本内容は、質疑応答のサマリーです。