236th ECS Meeting
イベント概要
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開催日
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2019.10.13〜2019.10.17
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開催場所
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アメリカ（アトランタ）
第236回ECS Meetingが、10/13から17にアメリカのアトランタで開催されます。
電気化学や固体物理/化学の領域における最新の研究成果が議論され、東京エレクトロンは4件の講演を予定しています。
1. Challenges and Opportunities for High-K Dielectrics for Advanced Technology Nodes
2. Wet Etching inside Advanced High Aspect Ratio Structures: Impact of Dissolved Oxygen
3. Capillary Pattern Collapse: Prediction and Prevention from Past to Future
4. Atomic Layer Processing for Advanced Electronics
1. Kandabara Tapily, Robert D. Clark, Steven Consiglio, Hiroaki Niimi, D. Triyoso, Cory S. Wajda, and Gert J. Leusink (TEL Technology Center, America, LLC)
2. Tetsuya Sakazaki*1, Hitoshi Kosugi*1, Derek W Bassett*2, Ihsan Simms*3, Antonio Rotondaro*2, and Trace Hurd*2
*1 Tokyo Electron Kyushu Ltd.
*2 Tokyo Electron America‚ Inc.
*3 Tokyo Electron Ltd.
3. Derek W Bassett (Tokyo Electron America‚ Inc.)
4. Gerrit J Leusink (Tokyo Electron Ltd.)
