化学工学会 第51回 秋季大会
イベント概要
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開催日
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2020.09.24〜2020.09.26
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開催場所
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バーチャル
幅広い学問分野に関して活発な議論がおこなわれる化学工学会 第51回 秋季大会が9/24から9/26にバーチャルで開催されます。東京エレクトロン（TEL）からは「CVD・ドライプロセス －構造・機能制御の反応工学－」セッションにて、招待講演として最先端の半導体製造における成膜技術について講演予定です。
ぜひこの機会に参加をご検討ください！
Invited talk
Concept, design and future of semi-batch type ALD equipment and process
K. Hitoshi, S. Yuji (Tokyo Electron Technology Solutions Limited)
