CSTIC / SEMICON CHINA 2021
イベント概要
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開催日
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2021.03.17〜2021.03.19
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開催場所
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中国（上海）
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対象者
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デバイスエンジニア プロセスエンジニア メカエンジニア ソフトエンジニア AIエンジニア データサイエンティスト/アナリティクス その他
東京エレクトロン(TEL)が協賛するSEMICON CHINA 2021が3/17から3/19に開催されます。TELのブース(Hall N1, Booth 1401)では、当社の装置やプロセス技術を紹介しています。また3/17には微細化・多層化が進む最先端半導体デバイスに対応した超臨界乾燥技術について講演予定です。TELは表面張力がゼロになり、パターン倒壊を起こさない超臨界流体を用いた乾燥技術を量産向け装置として開発しました。
SEMICON CHINAに先立って開催されるCSTICでは、より技術的な講演がおこなわれています。TELはCSTICで3件の講演を予定していますので、こちらも併せてご参加ください！
CSTIC 2021
Invited
(1) Innovative Future Etch Technology by Atomic-order control
(2) Practical Solutions to the Challenges of Quantitative Radical Species Sensoring in Process Plasmas
(3) New frontiers of device fabrication with atomic precision
(1)
Y. Kihara, T. Katsunuma, S. Kumakura, T. Hisamatsu, T.Niizeki, M.Tomura, M. Honda
Tokyo Electron Miyagi Ltd.
(2)
J. Zhao*1, P. Ventzek*1, C. Schlechte*1, J. Carroll*1,
T. Iwao*２, and K. Ishibashi*2
1 Tokyo Electron America, Inc.
2 Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
(3)
P.L.G. Ventzek
Tokyo Electron America, Inc.
SEMICON CHINA 2021
IC Ecosystem / New Technology Release Conference
3/17 10:00-10:25
Addressing Technology Challenges Through Supercritical Drying Technology
R. Qian
Tokyo Electron Shanghai Ltd.
