ASD2021

イベント概要

開催日: 2021.04.06〜2021.04.08

開催場所: オンライン

対象者: プロセスエンジニア

東京エレクトロン（TEL）が協賛する5th ASD 2021 (Area Selective Deposition Workshop)が4/6-8にオンライン開催されます。微細化に重要な技術である選択成膜（Area Selective Deposition）の最新の研究成果や現状の課題についてなど幅広い議論がおこなわれます。当社および共同研究者からはASD向けの自己組織化単分子膜（Self-Assembled Monolayer）に関する研究成果を報告します。ぜひご参加ください！

Invited
Spin-on of Self-assembled monolayers (SAMs) for enabling area selective deposition (ASD)

A. Romo-Negreira ^*1, S. Armini ^*2, A. Viva ^*2, K. Nafus ^*1, M. Muramatsu ^*1, K. Takahiro ^*1
1 Tokyo Electron Kyushu Ltd.,
2 imec

Analysis of Reaction and Decomposition of Isopropyl Alcohol on Copper and Copper Oxide Surfaces Toward Area-selective Processes

T. Mawaki ^*1, A. Teramoto ^*2, K. Ishii ^*3, Y. Shiba ^*1, T. Suwa ^*1, S. Azumo ^*3, A. Shimizu ^*3, K. Umezawa ^*3, R. Kuroda ^*1, Y. Shirai ^*1, S. Sugawa ^*1
1 Tohoku University
2 Hiroshima University
3 Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.