NGLワークショップ2021
イベント概要
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開催日
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2021.07.08〜2021.07.09
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開催場所
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オンライン
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対象者
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プロセスエンジニア
次世代リソグラフィワークショップ2021が7/8から7/9にオンライン開催されます。このワークショップでは、微細化に重要なリソグラフィ技術に関係する装置、プロセスから材料まで幅広い分野に関する研究発表および議論がおこなわれます。東京エレクトロン（TEL）からは口頭発表２件、ポスター発表3件を予定しています。
Oral-1
Self-Aligned Double Pattern Process using PS-b-PMMA DSA pattern
Oral-2
EUV patterning process development
Oral-1
M. Muramatsu *1, T. Nishi *1, Y. Ido *1, T. Kitano *2
1. Tokyo Electron Kyushu Ltd.
2. Tokyo Electron Ltd.
Oral-2
A.Sonoda
Tokyo Electron Ltd.
Poster-1
Enabling EUV pattern transfer by optimized under layer
Poster-2
EUV resist performance enhancement by UV flood exposure for high NA EUV lithography
Poster-3
EUV defect reduction activities using coater/developer and etching technique
Poster-1
S. Okada
Tokyo Electron Kyusyu Ltd.
Poster-2
D. Cong-Que
Tokyo Electron Kyushu Ltd.
Poster-3
T. Shiozawa
Tokyo Electron Kyushu Ltd.
