2022年 第69回 応用物理学会 春季学術講演会

招待講演
ユーザーから開発者、そして海外へ
東原 敬
Tokyo Electron Ltd.

学会発表

・SiNのプラズマ支援ALDにおける低エネルギーイオンの効果

伊藤 智子^*1, 北 英和^*1, 鈴木 歩太^*2, 加賀谷 宗仁^*2, 松隈 正明^*2, 松崎 和愛^*2, 唐橋 一浩^*1, 浜口 智志^*1
1 大阪大学大学院
2 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ（株）

・低圧TEOSガスRFプラズマから基板への入射ラジカル種および正イオン種の質量分析

石井 晃一^*1, 佐々木 瞬^*1, 神山 真大^*1, 李 虎^*2,伝宝 一樹^*2, 小田 昭紀^*1
1 千葉工業大学
2 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ（株）

・テトラエトキシシラン(TEOS)プラズマのシミュレーション解析

李 虎^*1, 石井 晃一^*2, 佐々木 瞬^*2, 神山 真大^*2, 小田 昭紀^*2, 伝宝 一樹^*1
1 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ（株）
2 千葉工業大学

・任意電圧波形励起PECVDによるa-C:H成膜における希ガスの効果の検証

永松 大樹^*1, 有馬 聡明^*1, 大高 真寛^*1, 山下 大輔^*1, 鎌滝 晋礼^*1, 古閑 一憲^*1, 白谷 正治^*1, 大友 洋^*2, 進藤 崇央^*2, 田中 諭志^*2, 松土 龍夫^*2
1 九州大学
2 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株)

・アセチレンプラズマ中での基板バイアス効果の赤外分光計測

中居 辰夫^*1, 桑田 篤哉^*2, 佐々本 凌^*2, 篠原 正典^*2, 松本 貴士^*3, 田中 諭志^*3
1 福岡大学大学院
2 福岡大学
3 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株)

・ヨウ化銅(Ⅰ)を原料とする選択LPCVD法によるCuの成長機構

豊田 絃人^*1, 菊池 ひかり^*1, 山内 智^*1, 布瀬 暁志^*2, 久保田 雄介^*2
1 茨城大学
2 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株)