プロセスエンジニア必見！The 22nd International Vacuum Congress (IVC-22)
イベント概要
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開催日
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2022.09.11〜2022.09.16
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開催場所
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札幌コンベンションセンター / オンライン
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対象者
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プロセスエンジニア
公益社団法人日本表面真空学会が主催する、真空に関する国際学会 The 22nd International Vacuum Congress (IVC-22) が9/11から9/16に札幌コンベンションセンターおよびオンラインで開催されます。本学会には世界的に著名な真空、表面科学分野の研究者を始め、各分野の技術を活用してビジネスの最前線で活躍されている方々および研究に取り組む学生が参加し、真空工学、プラズマ工学、薄膜、表面科学などに関する研究発表および議論がおこなわれます。
半導体の製造プロセスでも使用される本技術に関して、東京エレクトロン (TEL) からは、福岡大学との共著発表を2件予定しています。いずれもTEL共同研究公募制度による研究の発表です。ぜひみなさんご参加ください！
IR Spectroscopic Study of Film Deposition Process during Acetylene Plasma
T. Nakai*1, A. Kuwada*1, R. Sasamoto*1, M. Shinohara*2, T. Matsumoto*3, S. Tanaka*3
1 Graduate School of Engineering, Fukuoka University
2 Department of Electrical Engineering, Fukuoka University
3 Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
Effect of Helium as Diluting Gas on Film Deposition Process during Acetylene Plasma
A. Kuwada*1, T. Nakai*1, R. Sasamoto*1, M. Shinohara*2, T. Matsumoto*3, S. Tanaka*3
1 Graduate school of engineering, Fukuoka University
2 Department of Electrical Engineering, Fukuoka University
3 Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
IUVSTA - Elsevier Student Award受賞！
A. Kuwada
Graduate school of engineering, Fukuoka University
