プロセスエンジニア必見！≪学生は参加無料≫ SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography
イベント概要
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開催日
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2022.09.11〜2022.09.16
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開催場所
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アメリカ（モントレー）
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対象者
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プロセスエンジニア
半導体の微細化による技術革新の鍵を握る、代表的な国際学会のひとつ、SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography が9月25日-29日に開催されます！
フォトマスク、パターニング、計測、材料、検査・修正、マスクビジネス、極端紫外線リソグラフィ、新技術に関する世界最大級の学会です。東京エレクトロン (TEL) は、共著案件を含む2件の論文発表をおこないます！
学生は無料で参加可能です。ぜひこの機会にエキスパートとともに学び、半導体業界を探求し、ネットワークを築きましょう！
