TOKYO ELECTRON LIMITED

プロセスエンジニア必見!DPS2022

イベント概要

開催日

2022.11.06〜2022.11.06

開催場所

大阪国際会議場 / オンライン

対象者

プロセスエンジニア

第43回Dry Process Symposium(DPS2022)が、2022年11月24日から25日まで、大阪国際会議場(大阪府)&オンラインにて開催されます。

本シンポジウムは、マイクロエレクトロニクス、パワーデバイス、センサー、環境保護、バイオシステム、医療などへの応用を目指し、プラズマエッチングや成膜プロセス、プラズマと表面の診断とモデリング、プラズマによる表面改質など、急速に発展するドライプロセス分野のあらゆる側面をカバーしています。DPSは、30年以上にわたり、このエキサイティングな分野で活躍する専門家や学生たちに、深い議論をおこなうための貴重な場を提供してきました。

この機会に、専門家とともに学び、半導体産業を探求し、注目すべき専門家とネットワークを築きましょう!

AS2. Novel control of surface reaction in atomic layer processes (ALE / ALD / Area selective ALD)

Shyam Sridhar (Tokyo Electron America)
"Breakthrough technologies for opening process windows for sub-nanoscale precision etch"

Session A: Arranged Session 1 "Challenges to limits for high aspect ratio etching"

A-3 Ryo Igosawa
Tokyo Electron Miyagi Ltd.
"High-Fidelity Digital Twinning of High-Aspect-Ratio Amorphous Carbon Layer Etching

Session C: Etching Technologies & Deposition Technologies (CVD / PVD)

C-4 Hu Li
Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.
"Computational and Experimental Analysis of TEOS-based Plasma to Understand SiO2 PECVD Mechanisms"