プロセスエンジニア必見！ SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023
イベント概要
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開催日
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2023.02.26〜2023.03.02
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開催場所
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アメリカ（サンノゼ）
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対象者
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プロセスエンジニア
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023は、2023年2月26日から3月2日まで米国カリフォルニア州サンノゼで開催されます。
本展示会では、半導体製造および隣接アプリケーション向けのEUVリソグラフィ、パターニング技術、メトロロジー、プロセスインテグレーションに焦点が当てられます。
東京エレクトロンは、Coater/Developをはじめとする幅広い半導体製造装置のラインアップを生かし、微細化に取り組んでいます。本イベントでは、これらの最新の研究成果について発表をおこないます。
専門家がさまざまな技術やアプリケーションを紹介します。
Extreme ultraviolet (EUV) lithography
Novel patterning technologies: semiconductors, MEMS, NEMS, MOEMS
Metrology, inspection, and process control for microlithography
Advances in patterning materials and processes; optical microlithography
Design-process-technology co-optimization for manufacturability
Advanced etch technology and process integration for nanopatterning
