プロセスエンジニア必見！The International Conference of Photopolymer Science and Technology
イベント概要
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開催日
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2023.06.27〜2023.06.30
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開催場所
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幕張メッセ国際会議場 / オンライン
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対象者
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プロセスエンジニア
コンセプト：Polymer Microstructure、Resist Film, Materials & Processes for Advanced Lithography, Nanotechnology and Photo technology
The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology （ICPST-40）が6/27-30に幕張メッセ国際会議場とオンラインのハイブリッドで開催されます。ICPSTはフォトポリマーに関する幅広い科学的進歩や技術開発に関する研究報告がなされる国際会議です。TELが世界1位のマーケットシェアを誇る、先端リソグラフィ技術に関して招待講演、および共著案件の発表を予定しています。ぜひご期待ください！
当社はこれからもBest Products Best Technical Serviceを常に追求し、半導体の技術革新に貢献し続けます。そして、今年で創立60周年を迎えるいま、この節目を「新たな変革点」と位置づけ、さらなる挑戦と進化を続け、夢のある社会の発展に貢献してまいります！
招待講演：
Process Technologies Aiming for
High Resolution High NA EUV Resist Patterning
S. Nagahara1, C. Que Dinh2, A. Thiam3, A Dauendorffer2, Y. Kuwahara2, S. Okada2, S. Kawakami2, S. Fujimoto2, M. Muramatsu2, S. Shimura2, Y. Feurprier3, R. Ramaneti3, A. Tsuboi1, K. Nafus4, H. Iida1, T. Miyamoto2, E. Liu5, L. Huli5, K. Kato5, S. Grzeskowiak5
1 Tokyo Electron Ltd.
2 Tokyo Electron Kyushu Ltd.
3 Tokyo Electron Europe Ltd.
4 Tokyo Electron America, Inc.
5 TEL Technology Center, America, LLC
講演（共著）：
Formation and scalability of hexagonal hole pattern by DSA
M. Muramatsu1, T. Nishi1, K. Ito2, Y. Takahashi2, Y. Hatamura2, T. Kitano3, T. Iwaki4
1 Tokyo Electron Kyushu Ltd.
2 Tokyo Electron Miyagi Ltd.
3 Tokyo Electron Ltd.
4 Micron Memory Japan, K.K.
講演プログラム内容：
A. English Symposia
A0. Plenary Talk
A1. Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology
A2. Nanobiotechnology
A3. Directed Self Assembly (DSA)
A4. Computational / Analytical Approach for Lithography Processes
A5. EUV Lithography
A6. Nanoimprint
A7. 193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness
A8. Photopolymers in 3-D Printing/ Additive Manufacturing
A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics
A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices
A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science
A12. Organic and Hybrid Materials for Photovoltaic and Optoelectronic Devices
A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes
A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology
P. Panel Symposium
B. 日本語シンポジウム
B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー
B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化
B3. 一般講演:
(１) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)
(２) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)
(３) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング
(４) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)
(５) レジスト除去、エッチング、洗浄
(６) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)
