SPIE Advanced Lithography + Patterning 2024

SPIE Advanced Lithography + Patterning 2024が2024年2月25日から29日まで米国カリフォルニア州サンノゼで開催されました。本学会では、半導体製造および隣接アプリケーション向けのEUVリソグラフィ、パターニング技術、メトロロジー、プロセスインテグレーションに焦点が当てられました。

東京エレクトロン(TEL)は、Coater/Developerをはじめとする幅広い半導体製造装置のラインアップを生かし、微細化に取り組んでいます。これらの最新の研究成果について、TELからは共著案件を含む13件の発表をおこないました。