SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025
イベント概要
-
開催日
-
2025.02.23〜2025.02.27
-
開催場所
-
San Jose, CA
-
対象者
-
プロセスエンジニア
2月23日～27日、米国カリフォルニア州サンノゼでSPIE Advanced Lithography + Patterning 2025が開催されます！
AIや自動運転、AR/VRなどの新たなアプリケーションの隆盛により、半導体市場は2030年には1兆米ドルを超えると見込まれています。この大きな成長を実現するために、半導体は代名詞であるスケーリング（微細化）と、新たな牽引役であるヘテロジニアスインテグレーションの2つの軸で技術革新が進展しています。製造技術のさらなる進化に向けて、東京エレクトロン(TEL)は、本学会でパートナー企業とともに、8件の招待講演とポスターを含む19件の発表をおこないます！
EUV露光用 塗布現像装置でほぼ100%のシェアを有し、特許保有件数は、半導体製造装置業界でNo.1の23,249件(2024年3月末時点) を誇るTELの強みは、世界をリードする技術革新力です。
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025でのTELのエキスパート社員による発表をお楽しみに！
#TechnologyEnablingLife
