SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025
イベント概要
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開催日
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2025.02.23〜2025.02.27
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開催場所
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San Jose, CA
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対象者
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プロセスエンジニア
2月23日~27日、米国カリフォルニア州サンノゼでSPIE Advanced Lithography + Patterning 2025が開催されます!
AIや自動運転、AR/VRなどの新たなアプリケーションの隆盛により、半導体市場は2030年には1兆米ドルを超えると見込まれています。この大きな成長を実現するために、半導体は代名詞であるスケーリング(微細化)と、新たな牽引役であるヘテロジニアスインテグレーションの2つの軸で技術革新が進展しています。製造技術のさらなる進化に向けて、東京エレクトロン(TEL)は、本学会でパートナー企業とともに、8件の招待講演とポスターを含む19件の発表をおこないます!
EUV露光用 塗布現像装置でほぼ100%のシェアを有し、特許保有件数は、半導体製造装置業界でNo.1の23,249件(2024年3月末時点) を誇るTELの強みは、世界をリードする技術革新力です。
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025でのTELのエキスパート社員による発表をお楽しみに!
#TechnologyEnablingLife
