SPIE. ADVANCED LITHOGRAPHY 2019
イベント概要
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開催日
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2019.02.24〜2019.02.28
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開催場所
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アメリカ
デバイスの微細化に対して重要な技術の一つであるリソグラフィに特化した国際学会SPIE. ADVANCED LITHOGRAPHY 2019が2/24から2/28にアメリカで開催されます。この学会では、リソグラフィツールから材料、エッチング、計測などさまざまな角度から微細化に関する議論がおこなわれます。
東京エレクトロン（TEL）からは、Keynote Presentation 1件を含め、計12件報告予定です。
Integrated atomic scale CD control and local variability reduction techniques
Toru Hisamatsu, Takayuki Katsunuma, Yoshihide Kihara, Masanobu Honda(Tokyo Electron Miyagi)
Robustness of interactive pattern fidelity error as a quality metric for integrated patterning
Soichiro Okada*1, Shinji Kobayashi*1, Satoru Shimura*1, Masashi Enomoto*1, Shota Yoshimura*2, Kiyohito Ito*2, Shinya Morikita*2
*1 Tokyo Electron Kyushu
*2 Tokyo Electron Miyagi
