PRiME 2020
イベント概要
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開催日
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2020.10.04〜2020.10.09
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開催場所
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バーチャル
PRiME 2020が10/4から10/9にバーチャルで開催されます。この国際会議では、電気化学の分野を中心に研究発表および議論がおこなわれます。東京エレクトロングループ（TEL）および共同研究者から招待講演1件を含む3件の報告を予定しています。招待講演のタイトルは “Spatial ALD Challenges and Opportunities in Advanced Integrated Circuit Manufacturing” です。すべてのアブストラクトがECS Digital Libraryに公開されます。PRiMEの歴史上初めて、無料ですべてのプログラムに出席が可能となります。ぜひこの機会にご参加ください！
Invited talk
Spatial ALD Challenges and Opportunities in Advanced Integrated Circuit Manufacturing
D. O'Meara*1, A. Dip*1, M. Igeta*2, R. D. Clark*3, H. Higuchi*3, E. Liu*3, A. Raley*3, J. Smith*3, K. Tapily*3, D. Triyoso*3, and G. J. Leusink*3
*1 Tokyo Electron America, Inc.
*2 Tokyo Electron Limited
*3 TEL Technology Center, America, LLC
Investigation of Post-Bond Distortion in Direct Wafer Bonding
N. Ip*1, A. Nagata*1, N. Kohama*2, N. Wada*2, and K. Motoda*2
*1 Tokyo Electron America, Inc.
*2 Tokyo Electron Kyushu Limited
Evaluation of Silicon Nitride Film Formed By Atomic Layer Deposition on the Silicon Substrate with Trench Structure Using Angle-Resolved Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy
T. Nishihara*1, R. Yokogawa*1,2, Y. Otsuki*3, M. Kagaya*3, and A. Ogura*1,2
*1 School of Science and Technology, Meiji University
*2 Meiji Renewable Energy Laboratory
*3 Tokyo Electron Technology Solutions Limited
