プロセスエンジニア必見！NGLワークショップ2022

応用物理学会次世代リソグラフィ (NGL) 技術研究会が主催する、NGLワークショップ 2022が7/7から7/8にオンラインで開催されます。このワークショップでは、半導体の微細化に重要なリソグラフィ技術に関係する半導体製造装置、プロセス技術から材料まで幅広い分野に関する研究発表および議論がおこなわれます。

EUVリソグラフィ (EUVL)、高NA EUVパターニング、Directed Self-Assembly lithographyなど、半導体の技術革新に深く関わるキーワードについて学ぶことができる機会でもあります。東京エレクトロン (TEL) からは、東京エレクトロン元会長・社長によるPlenary Presentationに加え、２件の口頭発表、1件のポスター発表 (imecとの共著) を予定しています。

「ムーアの法則」を2nmの技術世代より先に進めるための鍵となる技術の1つが、高NA EUVリソグラフィ技術です。2021年6月に発表した「東京エレクトロン、imec-ASML 共同高NA EUVラボとの連携のお知らせ」の通り、TELは連続した複数工程向け装置をラインアップに有する強みを生かし、リソグラフィー工程向けの塗布現像に加え、エッチング工程を含む包括したパターニングソリューションを、グローバルでの協業を通して実現していきます！