洗浄装置CELLESTA™ MS2 販売開始のお知らせ

　東京エレクトロン（TEL、東京都港区、社長：河合利樹）は、洗浄装置CELLESTA^™ MS2の販売を開始することをお知らせいたします。

　枚葉洗浄装置のCELLESTAシリーズは、半導体製造における洗浄工程で幅広く採用いただいています。このたびリリースするCELLESTA MS2は、2流体スプレーおよびブラシによる物理洗浄機能を備えた洗浄装置です。本装置は、両面同時処理を実現したことで、従来製品と比較してさらに高い生産性を実現しています。両面処理時の単位面積当たりの生産性は従来装置より1.5倍以上(当社比)となりました。同時に、従来は洗浄時に非洗浄面の保護のために使用していた純水やガスを使用しないことで、プロセス時の用力使用量の削減にも貢献します。また、TEL独自のウェーハ保持技術により、これまで課題であったウェーハ最外周部およびベベル部分までの洗浄を可能とし、最先端の半導体製造で求められるパーティクル制御性を兼ね備えています。
 

東京エレクトロン執行役員兼CTSPS BUGM鷲尾康裕は、「CELLESTA MS2は、効率的な両面処理をおこなうことで単位面積当たりの生産性が大きく向上し、フットプリント削減への貢献が可能です。さらには用力削減による環境負荷低減を実現し、高生産性とランニングコスト低減を両立しております。これからも、お客さまのニーズに貢献できる技術開発および提案に努めてまいります。」と述べています。
 

^＊CELLESTAは、東京エレクトロングループの日本およびその他の国における登録商標または商標です。