洗浄 ANTARES™シリーズ
独自の洗浄技術により、微細パターン表面への低ダメージ洗浄を提供
ANTARES™シリーズ は200/300mmウェーハ対応の枚葉式全自動エアロゾル枚葉洗浄装置です。導入ガスを低温エアロゾル化する独自の技術により、デバイス表面の微細パーティクルだけを安定的に除去することが可能となりました。従来のウェット洗浄とは異なる完全ドライプロセスを提供し、CuやLow-k膜にダメージを与えることなく欠陥を低減します。ウェーハ処理に用いられるさまざまなメタル材料の腐食、ウォーターマークの形成や表面チャージを抑制し、半導体デバイスの歩留まり改善と欠陥除去に確かな性能を発揮します。
ANTARES™は、独自の低温エアロゾル技術を用いてパーティクル汚染の除去と歩留まり向上を実現する全自動枚葉洗浄装置です。導入ガスを低温エアロゾル化する独自の技術により、ドライ環境下できわめてセンシティブな薄膜に対しても表面反応や表面荒れ、エッチングダメージを生じさせることなく安全な処理を可能とします。ANTARES™は、バックエンドからフロントエンドまで幅広いアプリケーションへの欠陥処理技術を提供し、デバイスの歩留まり向上への高い効果を発揮します。
シリーズの比較
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| Wafer size (mm) |
200, 300 |
| Availability | New |
| Wafer per batch | Single wafer |
| Throughput lilmit (hardware) | Application dependent |
| Spray method | Cryogenic aerosol |
| Chemical dispense | Chemical and water free aerosol |
ANTARESは、TEL Manufacturing and Engineering of America, Inc.の米国およびその他の国における登録商標または商標です。
