TOKYO ELECTRON LIMITED
Si Power Device(~200㎜)に対するTELのソリューション

Hard Mask

ALPHA-8SE™i

200mm以下ウェーハ対応バッチ式熱処理成膜装置。装置の安定・継続稼動に向けた操作性・機能性の向上とともに、ワールドワイドの安全基準に適合。

対応プロセス
TEOS,p+,n+,p,n-Si,Si Sub

Photoresist Coat & Develop

CLEAN TRACK™ ACT™8Z

75~200mmウェーハ対応の塗布現像装置は各種基板対応(Si、GaAs、GaN、SiC、Thin&Thick他)が可能。SOD塗布成膜も対応可能。

対応プロセス
PR,TEOS,p+,n+,p,n-Si,Si Sub

Ox Etch In-situ Ash

UNITY™ Me+ / DRM chamber

100~200mmウェーハ対応プラズマエッチング装置。量産ラインにおいて高いコストパフォーマンスを実現し、優れた生産性と高い信頼性を達成。

対応プロセス
TEOS,p+,n+,p,n-Si,Si Sub

Si Trench Etch

UNITY™ Me+ / UD chamber

100~200mmウェーハ対応プラズマエッチング装置。量産ラインにおいて高いコストパフォーマンスを実現し、優れた生産性と高い信頼性を達成。

対応プロセス
TEOS,p+,n+,p,n-Si,Si Sub

Thermal Gate Oxide

ALPHA-8SE™i

200mm以下ウェーハ対応バッチ式熱処理成膜装置。装置の安定・継続稼動に向けた操作性・機能性の向上とともに、ワールドワイドの安全基準に適合。

対応プロセス
p+,n+,p,n-Si,Si Sub

Poly Si

ALPHA-8SE™i

200mm以下ウェーハ対応バッチ式熱処理成膜装置。装置の安定・継続稼動に向けた操作性・機能性の向上とともに、ワールドワイドの安全基準に適合。

対応プロセス
Poly Si,p+,n+,p,n-Si,Si Sub

Batch Spray Cleaning

ZETA™+

300/200mmウェーハ対応全自動バッチスプレー洗浄装置。最適な搬送清浄度環境を提供するミニエン機構を装備したFOUP/SMIFに対応、低コストのセミオート仕様も可能。

Scrubber

NS300+ 200mm Conversion

200mm/150mmウェーハ対応スクラバー洗浄装置。300mm次世代デバイス向け洗浄プロセス技術を搭載し、高い信頼性と生産性を実現。