300mmウェーハ塗布・現像装置CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro DICE™ 販売開始のお知らせ

東京エレクトロン（TEL、東京都港区、社長：河合利樹）は、300mmウェーハ塗布・現像装置CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro DICE™を発売することをお知らせします。

当社は、独自の製品コンセプトをもつ塗布・現像装置LITHIUS Pro™ Zを10年以上にわたり市場に提供し、先端半導体の量産化に貢献してきました。今後の半導体の進化に必要なEUV露光による極微細のパターニングの実現に向けて、このたび、LITHIUS Pro DICE™を新たにリリースしました。本装置は、革新的な欠陥制御技術を備え、従来比で50%以上^*1のレジスト塗布起因の欠陥低減とコスト低減を可能とします。また、業界最高速の塗布・現像プロセスとともに、クリーンルーム内のフットプリントの効率を最大限に高めることで、生産性と環境性能を従来比25%以上^*2向上させています。さらに、装置のデータ収集およびそれらを扱う情報処理システムの強化により、装置の稼動率やエンジニアの作業効率を向上させる機能を搭載しています。これにより、最先端のロジックからDRAM、NANDをはじめとした多くの半導体デバイスに対して、幅広く高効率な生産を実現できる体制を整えています。

東京エレクトロン CTSPS BUGM鷲尾康裕は、「LITHIUS Pro DICE™は、世界最高クラスの生産性と高性能ディフェクト制御技術を兼ね備え、High NAを含むEUVプロセスからDUVプロセスまで幅広いアプリケーションに対応できる装置です。今後もお客さまのニーズにお応えするため、継続的な技術開発やプロセスモジュールの拡充に努め、デバイスの進化に寄与していきたい」と述べています。

このように、LITHIUS Pro DICE™は、付加価値の高い半導体製造プロセスを提供することを目指しており、今後も技術革新を通じて業界のリーダーとしての地位を確立し続けていきます。

当社試算：従来装置のディフェクト性能・薬液消費量との比較

当社試算：従来装置のスループット・フットプリント・用力排気量との比較

LITHIUS、LITHIUS Pro、LITHIUS Pro DICEは、東京エレクトロングループの日本およびその他の国における登録商標または商標です。