成膜　MRTシリーズ

MRT300は、MRAMの開発および少量生産に適した300mmウェーハ対応の全自動強磁場中熱処理装置です。最大5テスラの磁場を生成し、ウェーハ25枚までのバッチサイズに対応します。使用温度は最高550℃、高スループットオーブン技術を採用し、クリーンな処理環境下で1℃以内の精密な温度制御機能を備えています。磁場に対するウェーハの向きが平行でも垂直でも熱処理を施すことが可能です。ウェーハの向きは装置のレシピ管理ソフトウェアでパラメータ設定可能なため、向きを変えるたびにハードウェアを修正する必要がありません。

MRT5000は150/200mmウェーハ対応の全自動強磁場中熱処理装置で、高生産プラットフォームを備え、高いスループットを発揮します。最大5テスラの磁場を生成し、ウェーハ25枚までのバッチサイズに対応します。使用温度は最高550℃、高スループットオーブン技術と1℃以内の精密な温度制御機能を備えています。高真空ないし不活性ガス環境で炉内の2つのチャンバーを分化冷却することにより、急速冷却、処理時間の短縮、スループットの強化が可能です。安全性を重視した超伝導電磁石に独自の高速処理オーブン技術を組み合わせた結果、これまでになく高いウェーハスループットと装置稼働時間を実現しました。これにより、MRT5000はハードディスク向け薄膜ヘッド量産用強磁場中熱処理装置のスタンダードとなっています。

MRT200は150/200mmウェーハ用磁気アニールのモジュラープラットフォームです。使用温度は最高400℃で、最大0.2テスラの磁場を生成します。装置の漏洩磁場を最小限に抑える電磁石設計の採用により、複数の装置を近接して設置できるため、量産に適しています。装置は単一のプロセスモジュールまたは複数モジュールでの構成が可能です。ローディングは手動ないし自動で行うことができ、枚葉式ロボットが各プロセスモジュールへのウェーハ搬送を担います。この設計により、コンパクトなパッケージで高いウェーハスループットが得られ、これまでにないプロセスの柔軟性と信頼性を実現します。

MATrは200mmまでのウェーハに対応する柔軟性の高い磁気アニール装置で、プロセス開発および少量生産に適しています。最大2テスラの磁場を生成し、ウェーハ10枚までのバッチサイズに対応します。超伝導電磁石を通じて、コンパクトなパッケージ内に可変磁場を生成することができます。アクティブ磁気遮蔽システムにより装置のサイズと漏洩磁場が最小限に抑えられるため、研究室などへの設置に適しています。各種のオプションにより、プロセスのニーズや予算に応じた装置構成が可能です。

MATrSMはコンパクトなパッケージで最大３テスラの磁場を生成するHDDの磁気ヘッド向け全自動の着磁装置です。異なるサンプルタイプ（ウェーハ・ローバー・HGA・メディアプラッタ）に合わせた構成が可能です。タッチスクリーン操作、製品バーコードリーダ、データ/イベント記録、レシピ管理、マルチレベルのセキュリティアクセス機能などを組み込んだSEMI標準ソフトウェアを搭載しています。